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光刻的造句

并且将四片微透镜阵列耦合,形成一个深紫外光刻的1:1成象的多孔径微小光刻系统。

光刻胶的旋涂与烘烤,薄膜材料制备。

水分散型感光胶乳适用于印花工业的金属网上,作为光刻胶之用。

该试剂用于清除匀胶后残留于硅片边缘及背面的光刻胶,已经广泛应用于中、大规模集成电路及其它半导体器件的生产。

呈现出秀美青秀山、风情南湖、国际会展中心等著名景点风光,刻画了壮乡习俗、民歌眷恋、邕剧精粹等民族文化。

因此,在实际应用中,它可以提供具有合适可见度的强光量子光刻术.

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本文的模拟结果不仅能为高能电子束光刻工艺优化曝光条件、降低邻近效应提供理论指导,而且能为进一步的邻近效应的校正提供更精确的数据。

着重介绍了当前国外步进扫描投影光刻机的工件台和掩模台的发展状况,并对套刻精度和整机精度进行了分析。

介绍一种在分步投影光刻机中,采用不等栅距光栅进行对准的系统。

分析了用光刻胶记录激光散斑来制作粗糙度参数可控表面的方法,并成功地制作了一批样品。

无掩模激光干涉光刻中的分束方法一般有波前分割和振幅分割。

现在的纳米尺度的技术能够也确实包括了从光刻、光学到测量学的每一个领域,包括材料科学、半导体制造,甚至包括了生物技术。

根据部分相干光成像理论和抗蚀剂曝光显影模型,模拟计算了这种灰阶编码掩模产生的空间光强分布和光刻胶上的浮雕结构。

硝基二氢苊的光氧化作用在无显影气相光刻中起着重要作用。

在同步辐射X射线光刻中,由于掩模的初始张应力和掩膜的非均匀受热将使掩模产生热畸变。

晶圆处理系统是光刻机的重要组成子系统,其包含两个主要部分:晶圆传输系统和晶圆预对准系统。

在这些模型和算法中存在大量的参数需要辨识与校准,参数辨识与校准直接影响光刻机工件台的运动精度。

光刻的意思和拼音

词语名称】: 光刻

词语拼音】: guāng kè

按字造句】: 光造句 刻造句

词语意思】: 为一种平版印刷技术,用以转移电路设计图和晶片上的电子元件到晶圆上。晶圆上先涂有对光敏感的膜(抗光蚀),被透过光罩上的光照射到的部份会变硬,以利后续处理。

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