• 采用两次曝光的方法在凹透镜表面上厚光刻胶中制作衍射光学元件。
• 矢量扫描电子束光刻
• 光刻胶安全灯的评价
• 摘要接近式光刻中一般采用柯勒照明系统,并采用蝇眼透镜形成多点光源均匀掩模面的光场分布。
• 结果表明采用基尔霍夫衍射理论及多点光源的衍射光场非相干叠加的模型不仅快速而且也可以比较准确地模拟接近式光刻的衍射光场分布。
• 光刻技术应用到集成电路制造中,就是将掩模版的几何图形转移到硅片表面的工艺过程。
• 当时的晶片设计者认为在矽晶圆上加上两三层金属有点冒险,会使晶圆表面凹凸不平,增加光刻过程中聚焦的困难。
• 继而论及薄膜生长方式,具有不同失配度的衬底对薄膜产生的不同应力类型,光刻和镀电极的简略步骤。
• 对影响干涉光刻结果的主要因素作了深入的分析,研究了提高干涉图形对比度和周期稳定性的方法。
• 课堂讲授和实验课重点介绍了基本的工艺技术,如扩散、氧化、光刻、化学汽相淀积以及其它。
• 在光刻工艺过程中,适当延长前烘时间可得到良好的显影图案。
• 另外,分支比是由版图和光刻工艺实现的,所以没有进行详细讨论。
• 摘要介绍了如何通过测量得出的等效扩散长度和光刻机的照明条件来对任何光刻工艺的线宽均匀性进行评估。
• 开展了球面激光直写光刻技术研究,分析了球面直写光刻工艺实验难点,提出了有效的解决办法,进行了初步的实验研究。
• 激光刻章机是融入光、机、电一体化技术高科技产品。
• 身份证卡面采用激光刻蚀技术印刷个人资料和数码影像,令资料难以遭窜改或复制。
• 尤其是光刻成微米、亚微米尺寸的磁性单元阵列的图形薄膜,由于和应用的尺度直接相关,且具有不寻常的磁特性,最近吸引了越来越多的兴趣。
【词语名称】: 光刻
【词语拼音】: guāng kè
【词语意思】: 为一种平版印刷技术,用以转移电路设计图和晶片上的电子元件到晶圆上。晶圆上先涂有对光敏感的膜(抗光蚀),被透过光罩上的光照射到的部份会变硬,以利后续处理。
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